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    PVD真空鍍膜技術性常見方式

    發布日期:2020-10-30 作者:正德 點擊:

    (1)真空泵蒸鍍:將需鍍膜的基體清理后放進鍍膜室,抽時間后將膜料加溫到高溫,使蒸汽做到約13.3Pa進而蒸汽分子結構飛到基體表面,凝固而成薄膜。

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    (2)負極磁控濺射鍍:將需鍍膜的基體放到負極正對面,把稀有氣體(如氬)進入已抽時間的房間內,維持氣體壓強約1.33~13.3Pa,隨后將負極接好2000V的直流穩壓電源,便激起電弧放電,帶正電荷的氬正離子碰撞負極,使其射出去分子,磁控濺射出的分子根據可塑性氛圍沉積到基體上產生膜。


    (3)有機化學液相沉積:根據分解反應所選中的金屬化合物或有機物,得到沉積薄膜的全過程。


    (4)等離子噴涂:本質上等離子噴涂系真空泵蒸鍍和負極磁控濺射鍍的有機結合,兼具二者的加工工藝特性


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