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    PVD真空鍍膜技術(shù)性常見方式

    發(fā)布日期:2020-10-30 作者:正德 點(diǎn)擊:

    (1)真空泵蒸鍍:將需鍍膜的基體清理后放進(jìn)鍍膜室,抽時(shí)間后將膜料加溫到高溫,使蒸汽做到約13.3Pa進(jìn)而蒸汽分子結(jié)構(gòu)飛到基體表面,凝固而成薄膜。

    PVD真空鍍膜

    (2)負(fù)極磁控濺射鍍:將需鍍膜的基體放到負(fù)極正對(duì)面,把稀有氣體(如氬)進(jìn)入已抽時(shí)間的房間內(nèi),維持氣體壓強(qiáng)約1.33~13.3Pa,隨后將負(fù)極接好2000V的直流穩(wěn)壓電源,便激起電弧放電,帶正電荷的氬正離子碰撞負(fù)極,使其射出去分子,磁控濺射出的分子根據(jù)可塑性氛圍沉積到基體上產(chǎn)生膜。


    (3)有機(jī)化學(xué)液相沉積:根據(jù)分解反應(yīng)所選中的金屬化合物或有機(jī)物,得到沉積薄膜的全過程。


    (4)等離子噴涂:本質(zhì)上等離子噴涂系真空泵蒸鍍和負(fù)極磁控濺射鍍的有機(jī)結(jié)合,兼具二者的加工工藝特性


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