PVD真空鍍膜的PVD即物理氣相沉積，是當前國際上廣泛應用的先進的表面處理技術。其工作原理就是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質離子轟擊作用的同時把蒸發(fā)物或其反應物沉積在基材上。它具有沉積速度快和表面清潔的特點，特別具有膜層附著力強、繞性好、可鍍材料廣泛等優(yōu)點。 采用全球先進的磁控濺射離子鍍膜和多弧離子鍍膜工藝設備，及在此基礎之上與國際專家的工藝創(chuàng)新。憑借在裝飾鍍行業(yè)十多年的寶貴經驗，為客戶提供最適合的涂層加工方案。

PVD鍍膜的屬性

金屬外觀 顏色均勻一致 耐久的表面，在各種基本的空氣和直射陽光環(huán)境條件下永久保持良好外觀。顏色深韻、光亮。

經濟，可減少清洗和擦亮電鍍黃銅或金色所必須的時間和成本。使用一塊軟布和玻璃清潔劑即可清潔干凈PVD膜層。

對環(huán)境無害，避免化學中毒和VOC的散發(fā)。

PVD鍍膜特性：

卓越的附著力，可以折彎90度以上不發(fā)生裂化或者剝落（PVD鍍膜持有很高附著力和耐久力）。其它的技術，包括電鍍，噴涂都不能與其相比。

可以蝕刻出任何能夠想象出的設計圖案。

可以使用在內裝修或者室外。

真空鍍膜，抗氧化，抗腐蝕。耐腐蝕，化學性能穩(wěn)定，抗酸。手機外殼PVD鍍膜抵抗力。

鍍膜外殼容易清除油漆和指紋。