PVD真空鍍膜一般是加熱靶材使外貌組分以原子團或離子形式被蒸發出來，而且沉降在基片外貌，通過成膜進程（散點－島狀布局-迷走布局-層狀發展）形成薄膜。 對付濺射類鍍膜，可以簡樸領略為操作電子或高能激光轟擊靶材，并使外貌組分以原子團或離子形式被濺射出來，而且終沉積在基片外貌，經驗成膜過蒸發鍍膜設備+所鍍產物圖蒸發鍍膜設備+所鍍產物圖程，終形成薄膜。

　　真空鍍膜包羅：磁控濺射法，電弧離子鍍法等，假如在鍍膜進程中通入氮氣可以形成氮化鈦，鍍層顏色金黃色，不然白色。該要優先鍍層薄，一般在15個微米閣下，鍍層灼爍不需要后續加工。噴涂的要優先有冷噴涂法。涂層很厚可以到達毫米量級，外貌粗拙需要后續加工

    PVD真空鍍膜是在真空爐里鍍膜處理的，而水電鍍是在水溶液里進行處理的。真空鍍膜工藝程流復雜，環境和設備要求高，中間鍍膜工序有轉運的過程。而水電工藝流程相當簡單，從設備到環境要求均沒有真空鍍膜苛刻，可全自動化生產中完成。

   真空鍍膜現在有不連續鍍膜可以不導電。而水電鍍電鍍產品后導電性顯著增強， 真空鍍膜加工的顏色要比水電鍍的豐富，色澤光亮度要比水電鍍的亮。真空鍍膜保色時間會長點，不會腐蝕氧化的，硬度稍稍差點。水電鍍的輪轂硬度稍稍好點，但是很容易發黃腐蝕的。

　   真空鍍鈦是此刻是一種較量風行的產物加工做法，道理是在真空條件下，回收低電壓、大電流的電弧放電技能，操作氣體放電使靶材蒸發并使被蒸發物質與氣體都產生電離，操作電場的加快浸染，使被蒸發物質及其回響產品沉積在工件上，能賦予產物外貌金屬質感和富厚的顏色，并改進耐磨、耐腐化性，耽誤命命。