隨著人們生活水平的提高，手機(jī)的使用也越來(lái)越普遍，但是，手機(jī)在帶給人們方便的同時(shí)，其輻射對(duì)人體的危害也日益凸現(xiàn)。研究表表明，手機(jī)產(chǎn)生的電磁波強(qiáng)度是空間電磁波的4到6倍。少數(shù)劣質(zhì)手機(jī)產(chǎn)生的電磁波甚至達(dá)到空間電磁波百倍以上。

    手機(jī)輻射可引發(fā)神經(jīng)衰弱、內(nèi)分泌失調(diào)，還能影響少年兒童的生長(zhǎng)發(fā)育，嚴(yán)重的甚至?xí)l(fā)腦瘤。如何減輕手機(jī)輻射對(duì)人體健康的影響，已成為擺在我們面前的一個(gè)急需解決的問(wèn)題。

    應(yīng)用手機(jī)PVD真空鍍膜技術(shù)，就可以較好地解決這個(gè)難題。PVD真空鍍膜是在原子水平上進(jìn)行材料生成的技術(shù)，鍍層的晶料度在10納米左右，屬于納米材料的范疇。通過(guò)對(duì)手機(jī)殼內(nèi)壁真空鍍電磁防護(hù)膜層，可以極大地防止因電磁波輻射而對(duì)手機(jī)使用者造成的危害。由北京東明化學(xué)工業(yè)有限公司完成的硬課題“手機(jī)PVD真空鍍膜技術(shù)的研究”，主要解決的是鍍膜的工藝問(wèn)題，包括電阻率、附著力、高溫抗氧化性、膜層表面光亮度以及復(fù)雜區(qū)域的膜層附著問(wèn)題

    手機(jī)PVD真空鍍膜技術(shù)的研究與應(yīng)用，不僅推動(dòng)了手機(jī)制造業(yè)的發(fā)展，也推動(dòng)了相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。有電磁輻射的產(chǎn)品都可以應(yīng)用這項(xiàng)技術(shù)進(jìn)行電磁屏蔽，以對(duì)其使用性能進(jìn)行優(yōu)化，保護(hù)人類健康，保護(hù)環(huán)境。